WEKO3
アイテム
Optimizing the reactive ion etching conditions with minimal damage for high functional magnetic nano device application in BiFeO3-based thin film by Eu/Co substitution
http://hdl.handle.net/10295/0002000453
http://hdl.handle.net/10295/000200045305352c0d-81a4-4697-9ae2-f4d6ed0e3649
| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||||||||
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| 公開日 | 2025-10-23 | |||||||||||
| タイトル | ||||||||||||
| タイトル | Optimizing the reactive ion etching conditions with minimal damage for high functional magnetic nano device application in BiFeO3-based thin film by Eu/Co substitution | |||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||
| 言語 | ||||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||
| 資源タイプ | journal article | |||||||||||
| 作成者 |
Ratha Soumyaranjan
× Ratha Soumyaranjan
× Egawa Genta
× Yoshimura Satoru
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| 書誌情報 |
en : Applied Surface Science 巻 643, p. 158704, 発行日 2024 |
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| 関連情報 | ||||||||||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||||||||
| 関連識別子 | 10.1016/j.apsusc.2023.158704 | |||||||||||
